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Critique

resist photo workshop vol.01 

発行年: 2007
発行元: resist写真集制作室
サイズ: B5判変形
仕 様: 162頁
デザイン: 町口覚
resistとは、吉永マサユキ、森山大道、ルーニィ・247フォトグラフィーが2006年5月に開講した、若手写真家を養成するフォトワークショップ。resist第一期生24人に加え、吉永、森山両氏の作品を収録。